Detalhe da pesquisa
1.
Non-epitaxial single-crystal 2D material growth by geometric confinement.
Nature;
614(7946): 88-94, 2023 02.
Artigo
em Inglês
| MEDLINE
| ID: mdl-36653458
2.
Plasma enhanced atomic layer deposition of silicon nitride using magnetized very high frequency plasma.
Nanotechnology;
35(27)2024 Apr 18.
Artigo
em Inglês
| MEDLINE
| ID: mdl-38522102
3.
Highly selective etching of SiNxover SiO2using ClF3/Cl2remote plasma.
Nanotechnology;
34(46)2023 Aug 29.
Artigo
em Inglês
| MEDLINE
| ID: mdl-37531942
4.
Atomic layer etching of Sn by surface modification with H and Cl radicals.
Nanotechnology;
34(3)2022 Nov 04.
Artigo
em Inglês
| MEDLINE
| ID: mdl-36223734
5.
Reduction of EUV resist damage by neutral beam etching.
Nanotechnology;
33(9)2021 Dec 09.
Artigo
em Inglês
| MEDLINE
| ID: mdl-34808609
6.
Etch characteristics of magnetic tunnel junction materials using H2/NH3 reactive ion beam.
Nanotechnology;
32(5): 055301, 2021 Jan 29.
Artigo
em Inglês
| MEDLINE
| ID: mdl-33179607
7.
Etch characteristics of Si and TiO2 nanostructures using pulse biased inductively coupled plasmas.
Nanotechnology;
31(26): 265302, 2020 Apr 09.
Artigo
em Inglês
| MEDLINE
| ID: mdl-32131063
8.
Light extraction enhancement of AlGaN-based vertical type deep-ultraviolet light-emitting-diodes by using highly reflective ITO/Al electrode and surface roughening.
Opt Express;
27(21): 29930-29937, 2019 Oct 14.
Artigo
em Inglês
| MEDLINE
| ID: mdl-31684248
9.
Highly oxidation-resistant silver nanowires by C x F y polymers using plasma treatment.
Nanotechnology;
30(28): 285702, 2019 Jul 12.
Artigo
em Inglês
| MEDLINE
| ID: mdl-30893668
10.
Atomic layer etching of chrome using ion beams.
Nanotechnology;
30(8): 085303, 2019 Feb 22.
Artigo
em Inglês
| MEDLINE
| ID: mdl-30523944
11.
Efficient metallic nanowire welding using the Eddy current method.
Nanotechnology;
30(6): 065708, 2019 Feb 08.
Artigo
em Inglês
| MEDLINE
| ID: mdl-30524023
12.
Evaluation of a ferroelectric tunnel junction by ultraviolet-visible absorption using a removable liquid electrode.
Nanotechnology;
27(21): 215704, 2016 May 27.
Artigo
em Inglês
| MEDLINE
| ID: mdl-27087674
13.
Controlled MoS2 layer etching using CF4 plasma.
Nanotechnology;
26(35): 355706, 2015 Sep 04.
Artigo
em Inglês
| MEDLINE
| ID: mdl-26267409
14.
Surface Modification of Block Copolymer Through Sulfur Containing Plasma Treatment.
J Nanosci Nanotechnol;
15(10): 8093-8, 2015 Oct.
Artigo
em Inglês
| MEDLINE
| ID: mdl-26726468
15.
A Special Issue on Nanotechnology in Korea 2018.
J Nanosci Nanotechnol;
19(10): 6007, 2019 10 01.
Artigo
em Inglês
| MEDLINE
| ID: mdl-31026899
16.
Graphene doping methods and device applications.
J Nanosci Nanotechnol;
14(2): 1120-33, 2014 Feb.
Artigo
em Inglês
| MEDLINE
| ID: mdl-24749416
17.
A Special Issue on Nanotechnology in Korea 2017.
J Nanosci Nanotechnol;
18(9): 5859, 2018 09 01.
Artigo
em Inglês
| MEDLINE
| ID: mdl-29677706
18.
Nanometer-scale fabrication of hydrogen silsesquioxane (HSQ) films with post exposure baking.
J Nanosci Nanotechnol;
13(3): 1918-22, 2013 Mar.
Artigo
em Inglês
| MEDLINE
| ID: mdl-23755620
19.
Enhanced light extraction from GaN-based vertical light-emitting diodes with a nano-roughened N-GaN surface using dual-etch.
J Nanosci Nanotechnol;
13(12): 8064-9, 2013 Dec.
Artigo
em Inglês
| MEDLINE
| ID: mdl-24266192
20.
Plasma treatment of thin film coated with graphene flakes for the reduction of sheet resistance.
J Nanosci Nanotechnol;
13(12): 8090-4, 2013 Dec.
Artigo
em Inglês
| MEDLINE
| ID: mdl-24266197