Effect of alkyl properties and head groups of cationic surfactants on retention of cesium by organoclays.

Wang, Tsing-Hai; Hsieh, Chi-Jung; Lin, Shih-Min; Wu, Ding-Chiang; Li, Ming-Hsu; Teng, Shi-Ping

Wang, Tsing-Hai; Hsieh, Chi-Jung; Lin, Shih-Min; Wu, Ding-Chiang; Li, Ming-Hsu; Teng, Shi-Ping.

Afiliação

Wang TH; Institute of Nuclear Engineering and Science, National Tsing Hua University, Hsinchu 300, Taiwan.

Environ Sci Technol ; 44(13): 5142-7, 2010 Jul 01.

Article em En | MEDLINE | ID: mdl-20536145

Assuntos

Césio/química; Compostos Orgânicos/química; Tensoativos/química; Adsorção; Algoritmos; Silicatos de Alumínio; Cátions; Argila; Concentração de Íons de Hidrogênio; Interações Hidrofóbicas e Hidrofílicas; Modelos Teóricos; Software; Espectroscopia de Infravermelho com Transformada de Fourier; Difração de Raios X

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Texto completo: 1 Coleções: 01-internacional Base de dados: MEDLINE Assunto principal: Compostos Orgânicos / Tensoativos / Césio Tipo de estudo: Prognostic_studies Idioma: En Revista: Environ Sci Technol Ano de publicação: 2010 Tipo de documento: Article País de afiliação: Taiwan

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