Factors contributing to the yield of asymmetric bilateral implantation of intracranial electrodes.

Lee, Ricky W; Mandrekar, Jay; Worrell, Gregory A; Cascino, Gregory D; Wetjen, Nicholas M; Meyer, Fredric B; Wirrell, Elaine C; Marsh, W Richard; So, Elson

Lee, Ricky W; Mandrekar, Jay; Worrell, Gregory A; Cascino, Gregory D; Wetjen, Nicholas M; Meyer, Fredric B; Wirrell, Elaine C; Marsh, W Richard; So, Elson.

Afiliação

Lee RW; Department of Neurology, Mayo Clinic, Rochester, Minnesota, U.S.A.

Epilepsia ; 55(10): 1620-5, 2014 Oct.

Article em En | MEDLINE | ID: mdl-25196143

Assuntos

Encéfalo/fisiopatologia; Eletrodos Implantados; Convulsões/etiologia; Adulto; Mapeamento Encefálico/métodos; Criança; Eletroencefalografia; Epilepsia do Lobo Temporal/etiologia; Epilepsia do Lobo Temporal/fisiopatologia; Epilepsia do Lobo Temporal/cirurgia; Feminino; Humanos; Masculino; Estudos Retrospectivos; Convulsões/fisiopatologia; Convulsões/cirurgia; Resultado do Tratamento

Palavras-chave

Epilepsy; Epilepsy surgery; Intracranial electroencephalography

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Texto completo: 1 Coleções: 01-internacional Base de dados: MEDLINE Assunto principal: Convulsões / Encéfalo / Eletrodos Implantados Tipo de estudo: Etiology_studies / Observational_studies / Prognostic_studies / Risk_factors_studies Limite: Adult / Child / Female / Humans / Male Idioma: En Revista: Epilepsia Ano de publicação: 2014 Tipo de documento: Article País de afiliação: Estados Unidos

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