Geometry of Chemical Beam Vapor Deposition System for Efficient Combinatorial Investigations of Thin Oxide Films: Deposited Film Properties versus Precursor Flow Simulations.

Wagner, Estelle; Sandu, Cosmin S; Harada, Scott; Pellodi, Cedric; Jobin, Marc; Muralt, Paul; Benvenuti, Giacomo

Wagner, Estelle; Sandu, Cosmin S; Harada, Scott; Pellodi, Cedric; Jobin, Marc; Muralt, Paul; Benvenuti, Giacomo.

Afiliação

Wagner E; ABCD Technology , 12 Route de Champ-Colin, CH-1260 Nyon, Switzerland.
Sandu CS; 3D-Oxides , Technoparc, 130 rue Gustave Eiffel, F-01630, Saint Genis Pouilly, France.
Harada S; ABCD Technology , 12 Route de Champ-Colin, CH-1260 Nyon, Switzerland.
Pellodi C; 3D-Oxides , Technoparc, 130 rue Gustave Eiffel, F-01630, Saint Genis Pouilly, France.
Jobin M; 3D-Oxides , Technoparc, 130 rue Gustave Eiffel, F-01630, Saint Genis Pouilly, France.
Muralt P; HEPIA, University of Applied Sciences (HES-SO) , 4 rue de la Prairie, CH-1202 Genève, Switzerland.
Benvenuti G; HEPIA, University of Applied Sciences (HES-SO) , 4 rue de la Prairie, CH-1202 Genève, Switzerland.

ACS Comb Sci ; 18(3): 154-61, 2016 Mar 14.

Article em En | MEDLINE | ID: mdl-26901528

Assuntos

Óxidos/química; Técnicas de Química Combinatória/instrumentação; Desenho de Equipamento; Gases/química; Semicondutores; Propriedades de Superfície; Volatilização

Palavras-chave

chemical beams; combinatorial; oxides; thin film deposition

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Texto completo: 1 Coleções: 01-internacional Base de dados: MEDLINE Assunto principal: Óxidos Idioma: En Revista: ACS Comb Sci Ano de publicação: 2016 Tipo de documento: Article País de afiliação: Suíça

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