Highly directional thermal emission from two-dimensional silicon structures.

Ribaudo, Troy; Peters, David W; Ellis, A Robert; Davids, Paul S; Shaner, Eric A

Ribaudo, Troy; Peters, David W; Ellis, A Robert; Davids, Paul S; Shaner, Eric A.

Afiliación

Ribaudo T; Sandia National Laboratories, P.O. Box 5800, Albuquerque, New Mexico 87185, USA. tribaud@sandia.org

Opt Express ; 21(6): 6837-44, 2013 Mar 25.

Article en En | MEDLINE | ID: mdl-23546065

Asunto(s)

Calefacción/instrumentación; Silicio/química; Silicio/efectos de la radiación; Transductores; Transferencia de Energía; Diseño de Equipo; Análisis de Falla de Equipo; Rayos Infrarrojos

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Texto completo: 1 Colección: 01-internacional Base de datos: MEDLINE Asunto principal: Silicio / Transductores / Calefacción Idioma: En Revista: Opt Express Asunto de la revista: OFTALMOLOGIA Año: 2013 Tipo del documento: Article País de afiliación: Estados Unidos

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