Defect-free erbium silicide formation using an ultrathin Ni interlayer.
ACS Appl Mater Interfaces
; 6(16): 14712-7, 2014 Aug 27.
Article
en En
| MEDLINE
| ID: mdl-25093916
Texto completo:
1
Colección:
01-internacional
Base de datos:
MEDLINE
Idioma:
En
Revista:
ACS Appl Mater Interfaces
Asunto de la revista:
BIOTECNOLOGIA
/
ENGENHARIA BIOMEDICA
Año:
2014
Tipo del documento:
Article