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Sub-50 nm patterning by immersion interference lithography using a Littrow prism as a Lloyd's interferometer.
de Boor, Johannes; Kim, Dong Sik; Schmidt, Volker.
Afiliação
  • de Boor J; Max-Planck Institute of Microstructure Physics, Weinberg 2, 06120 Halle, Germany. deboor@mpi­halle.mpg.de
Opt Lett ; 35(20): 3450-2, 2010 Oct 15.
Article em En | MEDLINE | ID: mdl-20967096
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Texto completo: 1 Coleções: 01-internacional Base de dados: MEDLINE Idioma: En Revista: Opt Lett Ano de publicação: 2010 Tipo de documento: Article País de afiliação: Alemanha
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