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Analysis of etching mechanism and etched slope control of silicon for nanoimprinting lithography.
Ham, Y-H; Kim, Y; Baek, K-H; Do, L M; Kwon, K-H; Park, K-B.
Afiliação
  • Ham YH; Department of Control and Instrumentation Engineering, Korea University, Jochiwon, Chungnam 339-700, Korea.
J Nanosci Nanotechnol ; 11(7): 6523-7, 2011 Jul.
Article em En | MEDLINE | ID: mdl-22121749
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Coleções: 01-internacional Base de dados: MEDLINE Idioma: En Revista: J Nanosci Nanotechnol Ano de publicação: 2011 Tipo de documento: Article
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