The effect of oblique-angle sputtering on large area deposition: a unidirectional ultrathin Au plasmonic film growth design. | Nanotechnology;31(44): 445701, 2020 Oct 30. | MEDLINE

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The effect of oblique-angle sputtering on large area deposition: a unidirectional ultrathin Au plasmonic film growth design.

Bakkali, H; Blanco, E; Dominguez, M; de la Mora, M B; Sánchez-Aké, C; Villagrán-Muniz, M; Schmool, D S; Berini, B; Lofland, S E.

Afiliação

Bakkali H; Departamento de Física de la Materia Condensada and IMEYMAT: Institute of Research on Electron Microscopy and Materials, University of Cadiz, E11510, Puerto Real, Cádiz, Spain.

Nanotechnology ; 31(44): 445701, 2020 Oct 30.

Article em En | MEDLINE | ID: mdl-32668415

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Texto completo: 1 Coleções: 01-internacional Base de dados: MEDLINE Tipo de estudo: Prognostic_studies Idioma: En Revista: Nanotechnology Ano de publicação: 2020 Tipo de documento: Article País de afiliação: Espanha

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