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Opt Express ; 20(7): 8093-9, 2012 Mar 26.
Artigo em Inglês | MEDLINE | ID: mdl-22453480

RESUMO

Indium-rich InGaN epitaxial layers with a p-i-n structure were grown pseudomorphically on a strain-relaxed InGaN template to reduce structural strain induced by lattice mismatch. We applied a nano-sculpting process to improve the crystal quality of the strain-relaxed InGaN template. The results show that the nano-sculpting process can suppress effectively the threading dislocation generation and improves significantly the I-V characteristic of the InGaN p-i-n structure. This InGaN template technique with nano-sculpting process shows great potential for future applications in indium-rich InGaN optic-electron devices.


Assuntos
Cristalização/métodos , Gálio/química , Índio/química , Impressão Molecular/métodos , Nanotecnologia/métodos , Semicondutores , Teste de Materiais
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