Buried amorphous-layer impact on dislocation densities in silicon. | J Microsc;224(Pt 1): 104-7, 2006 Oct. | MEDLINE

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Buried amorphous-layer impact on dislocation densities in silicon.

Wzorek, M; Katcki, J; Pluska, M; Ratajczak, J; Jaroszewicz, B; Domanski, K; Grabiec, P.

Afiliação

Wzorek M; Institute of Electron Technology, Al. Lotników 32/46, 02-668 Warsaw, Poland. mwzorek@ite.waw.pl

J Microsc ; 224(Pt 1): 104-7, 2006 Oct.

Article em En | MEDLINE | ID: mdl-17100918

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Coleções: 01-internacional Base de dados: MEDLINE Idioma: En Revista: J Microsc Ano de publicação: 2006 Tipo de documento: Article

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