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Large melting-point hysteresis of Ge nanocrystals embedded in SiO2.
Xu, Q; Sharp, I D; Yuan, C W; Yi, D O; Liao, C Y; Glaeser, A M; Minor, A M; Beeman, J W; Ridgway, M C; Kluth, P; Ager, J W; Chrzan, D C; Haller, E E.
Afiliação
  • Xu Q; Department of Materials Science and Engineering, University of California, Berkeley, California 94720, USA.
Phys Rev Lett ; 97(15): 155701, 2006 Oct 13.
Article em En | MEDLINE | ID: mdl-17155336
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Coleções: 01-internacional Base de dados: MEDLINE Idioma: En Revista: Phys Rev Lett Ano de publicação: 2006 Tipo de documento: Article
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