Residual stresses of sputtering titanium thin films at various substrate temperatures. | J Nanosci Nanotechnol;10(7): 4562-7, 2010 Jul. | MEDLINE

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Residual stresses of sputtering titanium thin films at various substrate temperatures.

Chang, R C; Chen, F Y; Chuang, C T; Tung, Y C.

Afiliação

Chang RC; Department of Mechanical and Computer-Aided Engineering, St. John's University, Tamsui, Taipei 25135, Taiwan.

J Nanosci Nanotechnol ; 10(7): 4562-7, 2010 Jul.

Article em En | MEDLINE | ID: mdl-21128457

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Coleções: 01-internacional Base de dados: MEDLINE Idioma: En Revista: J Nanosci Nanotechnol Ano de publicação: 2010 Tipo de documento: Article

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