Low-temperature deposition of high-quality silicon oxynitride films for CMOS-integrated optics. | Opt Lett;38(6): 941-3, 2013 Mar 15. | MEDLINE

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Low-temperature deposition of high-quality silicon oxynitride films for CMOS-integrated optics.

Rangarajan, B; Kovalgin, A Y; Wörhoff, K; Schmitz, J.

Afiliação

Rangarajan B; Group of Semiconductor Components, MESA+ Institute for Nanotechnology, University of Twente, Enschede, The Netherlands. b.rangarajan@utwente.nl

Opt Lett ; 38(6): 941-3, 2013 Mar 15.

Article em En | MEDLINE | ID: mdl-23503267

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Texto completo: 1 Coleções: 01-internacional Base de dados: MEDLINE Idioma: En Revista: Opt Lett Ano de publicação: 2013 Tipo de documento: Article

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