Optical assessment of silicon nanowire arrays fabricated by metal-assisted chemical etching.

Kato, Shinya; Kurokawa, Yasuyoshi; Watanabe, Yuya; Yamada, Yasuharu; Yamada, Akira; Ohta, Yoshimi; Niwa, Yusuke; Hirota, Masaki

Kato, Shinya; Kurokawa, Yasuyoshi; Watanabe, Yuya; Yamada, Yasuharu; Yamada, Akira; Ohta, Yoshimi; Niwa, Yusuke; Hirota, Masaki.

Afiliação

Kato S; Department of Physical Electronics, Tokyo Institute of Technology, Meguro-ku, Tokyo 152-8552, Japan. kato.s.am@m.titech.ac.jp.

Nanoscale Res Lett ; 8(1): 216, 2013 May 07.

Article em En | MEDLINE | ID: mdl-23651912

Texto completo

https://www.ncbi.nlm.nih.gov/pmc/articles/PMC3669086
https://dx.doi.org/10.1186/1556-276X-8-216

Imprimir

XML

PubMed Links

Buscar no Google

Texto completo: 1 Coleções: 01-internacional Base de dados: MEDLINE Idioma: En Revista: Nanoscale Res Lett Ano de publicação: 2013 Tipo de documento: Article

Texto completo

https://www.ncbi.nlm.nih.gov/pmc/articles/PMC3669086
https://dx.doi.org/10.1186/1556-276X-8-216

Imprimir

XML

PubMed Links

Buscar no Google

Texto completo: 1 Coleções: 01-internacional Base de dados: MEDLINE Idioma: En Revista: Nanoscale Res Lett Ano de publicação: 2013 Tipo de documento: Article