High-aspect-ratio and high-flatness Cu3(SiGe) nanoplatelets prepared by chemical vapor deposition. | J Nanosci Nanotechnol;13(6): 4302-10, 2013 Jun. | MEDLINE

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High-aspect-ratio and high-flatness Cu3(SiGe) nanoplatelets prepared by chemical vapor deposition.

Klementová, Mariana; Palatinus, Lukás; Novotný, Filip; Fajgar, Radek; Subrt, Jan; Drínek, Vladislav.

Afiliação

Klementová M; Institute of Physics of the AS CR, v.v.i. Cukrovarnická 10/112, 162 00 Prague 6, Czech Republic.

J Nanosci Nanotechnol ; 13(6): 4302-10, 2013 Jun.

Article em En | MEDLINE | ID: mdl-23862491

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Coleções: 01-internacional Base de dados: MEDLINE Idioma: En Revista: J Nanosci Nanotechnol Ano de publicação: 2013 Tipo de documento: Article

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