Chemically Homogeneous and Thermally Robust Ni1-xPtxSi Film Formed Under a Non-Equilibrium Melting/Quenching Condition.
ACS Appl Mater Interfaces
; 9(1): 566-572, 2017 Jan 11.
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Revista:
ACS Appl Mater Interfaces
Ano de publicação:
2017
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Article