Enhanced Performance of Ge Photodiodes via Monolithic Antireflection Texturing and α-Ge Self-Passivation by Inverse Metal-Assisted Chemical Etching.
ACS Nano
; 12(7): 6748-6755, 2018 Jul 24.
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Idioma:
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Revista:
ACS Nano
Ano de publicação:
2018
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Article