Correction to Band Gap Engineering with Ultralarge Biaxial Strains in Suspended Monolayer MoS<sub>2</sub>. | Nano Lett;19(10): 7548, 2019 Oct 09. | MEDLINE

Conteúdo principal 1 Busca 2 Rodapé 3

+A A -A Alto contraste

Biblioteca Virtual em Saúde - BRASIL

Informação e Conhecimento para a Saúde

Localizar descritor de assunto Busca Avançada

Correction to Band Gap Engineering with Ultralarge Biaxial Strains in Suspended Monolayer MoS₂.

Lloyd, David; Liu, Xinghui; Christopher, Jason W; Cantley, Lauren; Wadehra, Anubhav; Kim, Brian L; Goldberg, Bennett B; Swan, Anna K; Bunch, J Scott.

Nano Lett ; 19(10): 7548, 2019 Oct 09.

Article em En | MEDLINE | ID: mdl-31512467

Buscar no Google

Texto completo: 1 Coleções: 01-internacional Base de dados: MEDLINE Idioma: En Revista: Nano Lett Ano de publicação: 2019 Tipo de documento: Article

Buscar no Google

Texto completo: 1 Coleções: 01-internacional Base de dados: MEDLINE Idioma: En Revista: Nano Lett Ano de publicação: 2019 Tipo de documento: Article