A carbene stabilized precursor for the spatial atomic layer deposition of copper thin films. | Chem Commun (Camb);56(89): 13752-13755, 2020 Nov 18. | MEDLINE

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A carbene stabilized precursor for the spatial atomic layer deposition of copper thin films.

Boysen, Nils; Misimi, Bujamin; Muriqi, Arbresha; Wree, Jan-Lucas; Hasselmann, Tim; Rogalla, Detlef; Haeger, Tobias; Theirich, Detlef; Nolan, Michael; Riedl, Thomas; Devi, Anjana.

Afiliação

Boysen N; Inorganic Materials Chemistry, Ruhr University Bochum, 44801 Bochum, Germany. anjana.devi@rub.de.

Chem Commun (Camb) ; 56(89): 13752-13755, 2020 Nov 18.

Article em En | MEDLINE | ID: mdl-33063069

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Texto completo: 1 Coleções: 01-internacional Base de dados: MEDLINE Idioma: En Revista: Chem Commun (Camb) Ano de publicação: 2020 Tipo de documento: Article

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