Dry-Etching Processes for High-Aspect-Ratio Features with Sub-10 nm Resolution High-χ Block Copolymers.
ACS Appl Mater Interfaces
; 13(41): 49184-49193, 2021 Oct 20.
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Idioma:
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Revista:
ACS Appl Mater Interfaces
Ano de publicação:
2021
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Article