Low temperature silicon nitride by hot wire chemical vapour deposition for the use in impermeable thin film encapsulation on flexible substrates.

Spee, D A; van der Werf, C H M; Rath, J K; Schropp, R E I

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Low temperature silicon nitride by hot wire chemical vapour deposition for the use in impermeable thin film encapsulation on flexible substrates.

Spee, D A; van der Werf, C H M; Rath, J K; Schropp, R E I.

Afiliação

Spee DA; Debye Institute for Nanomaterials Science, Utrecht University, Nanophotonics-Physics of Devices, Princetonplein 5, 3584 CC Utrecht, the Netherlands.

J Nanosci Nanotechnol ; 11(9): 8202-5, 2011 Sep.

Article em En | MEDLINE | ID: mdl-22097555

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Coleções: 01-internacional Base de dados: MEDLINE Idioma: En Revista: J Nanosci Nanotechnol Ano de publicação: 2011 Tipo de documento: Article País de afiliação: Holanda

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