Boosting the local anodic oxidation of silicon through carbon nanofiber atomic force microscopy probes.

Rius, Gemma; Lorenzoni, Matteo; Matsui, Soichiro; Tanemura, Masaki; Perez-Murano, Francesc

Rius, Gemma; Lorenzoni, Matteo; Matsui, Soichiro; Tanemura, Masaki; Perez-Murano, Francesc.

Afiliação

Rius G; Nagoya Institute of Technology, NITech, Gokiso, Showa, 466-8555 Nagoya, Japan.
Lorenzoni M; Institut de Microelectronica de Barcelona, IMB-CNM-CSIC, Campus UAB 08193 Bellaterra, Spain.
Matsui S; Nagoya Institute of Technology, NITech, Gokiso, Showa, 466-8555 Nagoya, Japan.
Tanemura M; Nagoya Institute of Technology, NITech, Gokiso, Showa, 466-8555 Nagoya, Japan.
Perez-Murano F; Institut de Microelectronica de Barcelona, IMB-CNM-CSIC, Campus UAB 08193 Bellaterra, Spain.

Beilstein J Nanotechnol ; 6: 215-22, 2015.

Article em En | MEDLINE | ID: mdl-25671165

Palavras-chave

carbon nanofiber; dynamic mode; local anodic oxidation; nanopatterning

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Texto completo: 1 Coleções: 01-internacional Base de dados: MEDLINE Idioma: En Revista: Beilstein J Nanotechnol Ano de publicação: 2015 Tipo de documento: Article País de afiliação: Japão

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