Phase transition and thermal expansion studies of alumina thin films prepared by reactive pulsed laser deposition.

Balakrishnan, G; Thirumurugesan, R; Mohandas, E; Sastikumar, D; Kuppusami, P; Songl, J I

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Phase transition and thermal expansion studies of alumina thin films prepared by reactive pulsed laser deposition.

Balakrishnan, G; Thirumurugesan, R; Mohandas, E; Sastikumar, D; Kuppusami, P; Songl, J I.

J Nanosci Nanotechnol ; 14(10): 7728-33, 2014 Oct.

Article em En | MEDLINE | ID: mdl-25942856

Assuntos

Óxido de Alumínio/química; Lasers; Transição de Fase; Temperatura; Propriedades de Superfície; Difração de Raios X

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Coleções: 01-internacional Base de dados: MEDLINE Assunto principal: Temperatura / Transição de Fase / Óxido de Alumínio / Lasers Idioma: En Revista: J Nanosci Nanotechnol Ano de publicação: 2014 Tipo de documento: Article

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Coleções: 01-internacional Base de dados: MEDLINE Assunto principal: Temperatura / Transição de Fase / Óxido de Alumínio / Lasers Idioma: En Revista: J Nanosci Nanotechnol Ano de publicação: 2014 Tipo de documento: Article