Your browser doesn't support javascript.
loading
Fabrication of SrGe2 thin films on Ge (100), (110), and (111) substrates.
Imajo, T; Toko, K; Takabe, R; Saitoh, N; Yoshizawa, N; Suemasu, T.
Afiliação
  • Imajo T; Institute of Applied Physics, University of Tsukuba, 1-1-1 Tennodai, Tsukuba, Ibaraki, 305-8573, Japan.
  • Toko K; Institute of Applied Physics, University of Tsukuba, 1-1-1 Tennodai, Tsukuba, Ibaraki, 305-8573, Japan. toko@bk.tsukuba.ac.jp.
  • Takabe R; Institute of Applied Physics, University of Tsukuba, 1-1-1 Tennodai, Tsukuba, Ibaraki, 305-8573, Japan.
  • Saitoh N; Electron Microscope Facility, TIA, AIST, 16-1 Onogawa, Tsukuba, 305-8569, Japan.
  • Yoshizawa N; Electron Microscope Facility, TIA, AIST, 16-1 Onogawa, Tsukuba, 305-8569, Japan.
  • Suemasu T; Institute of Applied Physics, University of Tsukuba, 1-1-1 Tennodai, Tsukuba, Ibaraki, 305-8573, Japan.
Nanoscale Res Lett ; 13(1): 22, 2018 Jan 16.
Article em En | MEDLINE | ID: mdl-29340830

Texto completo: 1 Coleções: 01-internacional Base de dados: MEDLINE Idioma: En Revista: Nanoscale Res Lett Ano de publicação: 2018 Tipo de documento: Article País de afiliação: Japão

Texto completo: 1 Coleções: 01-internacional Base de dados: MEDLINE Idioma: En Revista: Nanoscale Res Lett Ano de publicação: 2018 Tipo de documento: Article País de afiliação: Japão