Full-field hard x-ray microscopy below 30 nm: a challenging nanofabrication achievement. | Nanotechnology;19(39): 395302, 2008 Oct 01. | MEDLINE

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Full-field hard x-ray microscopy below 30 nm: a challenging nanofabrication achievement.

Chen, Yu-Tung; Lo, Tsung-Nan; Chu, Yong S; Yi, Jaemock; Liu, Chi-Jen; Wang, Jun-Yue; Wang, Cheng-Liang; Chiu, Chen-Wei; Hua, Tzu-En; Hwu, Yeukuang; Shen, Qun; Yin, Gung-Chian; Liang, Keng S; Lin, Hong-Ming; Je, Jung Ho; Margaritondo, Giorgio.

Afiliación

Chen YT; Institute of Physics, Academia Sinica, Taipei 115, Taiwan. Department of Materials Engineering, Tatung University, Taipei 104, Taiwan.

Nanotechnology ; 19(39): 395302, 2008 Oct 01.

Article en En | MEDLINE | ID: mdl-21832591

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Texto completo: 1 Colección: 01-internacional Banco de datos: MEDLINE Idioma: En Revista: Nanotechnology Año: 2008 Tipo del documento: Article País de afiliación: Taiwán

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