Silicon interfacial passivation layer chemistry for high-k/InP interfaces. | ACS Appl Mater Interfaces;6(10): 7340-5, 2014 May 28. | MEDLINE

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Silicon interfacial passivation layer chemistry for high-k/InP interfaces.

Dong, Hong; Cabrera, Wilfredo; Qin, Xiaoye; Brennan, Barry; Zhernokletov, Dmitry; Hinkle, Christopher L; Kim, Jiyoung; Chabal, Yves J; Wallace, Robert M.

Afiliación

Dong H; Department of Materials Science and Engineering, University of Texas at Dallas , Richardson, Texas 75080, United States.

ACS Appl Mater Interfaces ; 6(10): 7340-5, 2014 May 28.

Article en En | MEDLINE | ID: mdl-24750024

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Texto completo: 1 Colección: 01-internacional Banco de datos: MEDLINE Idioma: En Revista: ACS Appl Mater Interfaces Asunto de la revista: BIOTECNOLOGIA / ENGENHARIA BIOMEDICA Año: 2014 Tipo del documento: Article País de afiliación: Estados Unidos

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