Role of re-growth interface preparation process for spectral line-width reduction of single InAs site-controlled quantum dots.

Herranz, Jesús; Wewior, Lukasz; Alén, Benito; Fuster, David; González, Luisa; González, Yolanda

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Role of re-growth interface preparation process for spectral line-width reduction of single InAs site-controlled quantum dots.

Herranz, Jesús; Wewior, Lukasz; Alén, Benito; Fuster, David; González, Luisa; González, Yolanda.

Afiliación

Herranz J; IMM-Instituto de Microelectrónica de Madrid (CNM-CSIC), Isaac Newton 8, PTM, E-28760 Tres Cantos, Madrid, Spain.

Nanotechnology ; 26(19): 195301, 2015 May 15.

Article en En | MEDLINE | ID: mdl-25895541

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