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Proximity Gettering Design of Hydrocarbon⁻Molecular⁻Ion⁻Implanted Silicon Wafers Using Dark Current Spectroscopy for CMOS Image Sensors.
Kurita, Kazunari; Kadono, Takeshi; Shigematsu, Satoshi; Hirose, Ryo; Okuyama, Ryosuke; Onaka-Masada, Ayumi; Okuda, Hidehiko; Koga, Yoshihiro.
Afiliación
  • Kurita K; SUMCO Corporation, 1-52 Kubara, Yamashiro-cho, Imari-shi, Saga 849-4256, Japan. k-kurita@sumcosi.com.
  • Kadono T; SUMCO Corporation, 1-52 Kubara, Yamashiro-cho, Imari-shi, Saga 849-4256, Japan. tkadono@sumcosi.com.
  • Shigematsu S; SUMCO Corporation, 1-52 Kubara, Yamashiro-cho, Imari-shi, Saga 849-4256, Japan. sshigema@sumcosi.com.
  • Hirose R; SUMCO Corporation, 1-52 Kubara, Yamashiro-cho, Imari-shi, Saga 849-4256, Japan. rhirose@sumcosi.com.
  • Okuyama R; SUMCO Corporation, 1-52 Kubara, Yamashiro-cho, Imari-shi, Saga 849-4256, Japan. rokuyama@sumcosi.com.
  • Onaka-Masada A; SUMCO Corporation, 1-52 Kubara, Yamashiro-cho, Imari-shi, Saga 849-4256, Japan. aonaka@sumcosi.com.
  • Okuda H; SUMCO Corporation, 1-52 Kubara, Yamashiro-cho, Imari-shi, Saga 849-4256, Japan. hokuda@sumcosi.com.
  • Koga Y; SUMCO Corporation, 1-52 Kubara, Yamashiro-cho, Imari-shi, Saga 849-4256, Japan. ykoga4@sumcosi.com.
Sensors (Basel) ; 19(9)2019 May 04.
Article en En | MEDLINE | ID: mdl-31060216
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Texto completo: 1 Colección: 01-internacional Banco de datos: MEDLINE Idioma: En Revista: Sensors (Basel) Año: 2019 Tipo del documento: Article País de afiliación: Japón
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