Fast heuristic-based source mask optimization for EUV lithography using dual edge evolution and partial sampling.
Opt Express
; 29(14): 22778-22795, 2021 Jul 05.
Article
en En
| MEDLINE
| ID: mdl-34266033
Texto completo:
1
Colección:
01-internacional
Banco de datos:
MEDLINE
Idioma:
En
Revista:
Opt Express
Asunto de la revista:
OFTALMOLOGIA
Año:
2021
Tipo del documento:
Article