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Epitaxially-grown Ge/Si avalanche photodiodes for 1.3 microm light detection.
Kang, Y; Zadka, M; Litski, S; Sarid, G; Morse, M; Paniccia, M J; Kuo, Y-H; Bowers, J; Beling, A; Liu, H D; McIntosh, D C; Campbell, J; Pauchard, A.
Afiliação
  • Kang Y; Intel Corporation, 2200 Mission College Blvd, Santa Clara, CA 95054, USA. yimin.kang@intel.com
Opt Express ; 16(13): 9365-71, 2008 Jun 23.
Article em En | MEDLINE | ID: mdl-18575500
ABSTRACT
We designed and fabricated Ge/Si avalanche photodiodes grown on silicon substrates. The mesa-type photodiodes exhibit a responsivity at 1310 nm of 0.54 A/W, a breakdown voltage thermal coefficient of 0.05%/ degrees C, a 3 dB-bandwidth of 10 GHz. The gain-bandwidth product was measured as 153 GHz. The effective k value extracted from the excess noise factor was 0.1.
Assuntos
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Coleções: 01-internacional Base de dados: MEDLINE Assunto principal: Fotometria / Semicondutores / Silício / Cristalização / Germânio / Modelos Teóricos Tipo de estudo: Diagnostic_studies / Prognostic_studies Idioma: En Revista: Opt Express Assunto da revista: OFTALMOLOGIA Ano de publicação: 2008 Tipo de documento: Article País de afiliação: Estados Unidos
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