Metal-induced crystallization of amorphous Si thin films assisted by atomic layer deposition of nickel oxide layers. | J Nanosci Nanotechnol;11(8): 7137-40, 2011 Aug. | MEDLINE

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Metal-induced crystallization of amorphous Si thin films assisted by atomic layer deposition of nickel oxide layers.

So, Byung-Soo; Bae, Seung-Muk; You, Yil-Hwan; Jo, DaiHui; Lee, Sun Sook; Chung, Taek-Mo; Kim, Chang Gyoun; An, Ki-Seok; Hwang, Jin-Ha.

Afiliação

So BS; Department of Mat. Sci. and Eng., Hongik University, Seoul 121-791, Korea.

J Nanosci Nanotechnol ; 11(8): 7137-40, 2011 Aug.

Article em En | MEDLINE | ID: mdl-22103142

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Coleções: 01-internacional Base de dados: MEDLINE Idioma: En Revista: J Nanosci Nanotechnol Ano de publicação: 2011 Tipo de documento: Article

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