Sub-diffraction-limited multilayer coatings for the 0.3 numerical aperture micro-exposure tool for extreme ultraviolet lithography.

Soufli, Regina; Hudyma, Russell M; Spiller, Eberhard; Gullikson, Eric M; Schmidt, Mark A; Robinson, Jeff C; Baker, Sherry L; Walton, Christopher C; Taylor, John S

Soufli, Regina; Hudyma, Russell M; Spiller, Eberhard; Gullikson, Eric M; Schmidt, Mark A; Robinson, Jeff C; Baker, Sherry L; Walton, Christopher C; Taylor, John S.

Afiliação

Soufli R; Lawrence Livermore National Laboratory, Livermore, California 94550, USA. regina.soufli@llnl.gov

Appl Opt ; 46(18): 3736-46, 2007 Jun 20.

Article em En | MEDLINE | ID: mdl-17538670

Assuntos

Óptica e Fotônica; Raios Ultravioleta; Algoritmos; Desenho de Equipamento; Magnetismo; Modelos Estatísticos; Modelos Teóricos; Espalhamento de Radiação; Espectrofotometria Ultravioleta; Propriedades de Superfície

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Coleções: 01-internacional Base de dados: MEDLINE Assunto principal: Raios Ultravioleta / Óptica e Fotônica Tipo de estudo: Risk_factors_studies Idioma: En Revista: Appl Opt Ano de publicação: 2007 Tipo de documento: Article País de afiliação: Estados Unidos

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