Gallium assisted plasma enhanced chemical vapor deposition of silicon nanowires.

Zardo, I; Yu, L; Conesa-Boj, S; Estradé, S; Alet, Pierre Jean; Rössler, J; Frimmer, M; Roca I Cabarrocas, P; Peiró, F; Arbiol, J; Morante, J R; Fontcuberta I Morral, A

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Gallium assisted plasma enhanced chemical vapor deposition of silicon nanowires.

Zardo, I; Yu, L; Conesa-Boj, S; Estradé, S; Alet, Pierre Jean; Rössler, J; Frimmer, M; Roca I Cabarrocas, P; Peiró, F; Arbiol, J; Morante, J R; Fontcuberta I Morral, A.

Afiliação

Zardo I; Walter Schottky Institut, Technische Universität München, Am Coulombwall, D-85748 Garching, Germany.

Nanotechnology ; 20(15): 155602, 2009 Apr 15.

Article em En | MEDLINE | ID: mdl-19420550

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Texto completo: 1 Coleções: 01-internacional Base de dados: MEDLINE Idioma: En Revista: Nanotechnology Ano de publicação: 2009 Tipo de documento: Article País de afiliação: Alemanha

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