Point defect clusters and dislocations in FIB irradiated nanocrystalline aluminum films: an electron tomography and aberration-corrected high-resolution ADF-STEM study.

Idrissi, Hosni; Turner, Stuart; Mitsuhara, Masatoshi; Wang, Binjie; Hata, Satoshi; Coulombier, Michael; Raskin, Jean-Pierre; Pardoen, Thomas; Van Tendeloo, Gustaaf; Schryvers, Dominique

Idrissi, Hosni; Turner, Stuart; Mitsuhara, Masatoshi; Wang, Binjie; Hata, Satoshi; Coulombier, Michael; Raskin, Jean-Pierre; Pardoen, Thomas; Van Tendeloo, Gustaaf; Schryvers, Dominique.

Afiliação

Idrissi H; EMAT, Department of Physics, University of Antwerp, Groenenborgerlaan 171, B-2020 Antwerp, Belgium. hosni.idrissi@ua.ac.be

Microsc Microanal ; 17(6): 983-90, 2011 Dec.

Article em En | MEDLINE | ID: mdl-22030303

Assuntos

Alumínio/análise; Microscopia Eletrônica de Varredura/métodos; Microscopia Eletrônica de Transmissão/métodos; Nanoestruturas/análise; Nanotecnologia/métodos; Tomografia Computadorizada por Raios X/métodos; Cristalização; Íons; Micromanipulação; Dióxido de Silício/química; Tomografia Computadorizada por Raios X/instrumentação

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Texto completo: 1 Coleções: 01-internacional Base de dados: MEDLINE Assunto principal: Microscopia Eletrônica de Varredura / Tomografia Computadorizada por Raios X / Nanotecnologia / Microscopia Eletrônica de Transmissão / Nanoestruturas / Alumínio Idioma: En Revista: Microsc Microanal Ano de publicação: 2011 Tipo de documento: Article País de afiliação: Bélgica

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