Stability of End-to-End Base Stacking Interactions in Highly Concentrated DNA Solutions.

Kodikara, Sineth G; Gyawali, Prabesh; Gleeson, James T; Jakli, Antal; Sprunt, Samuel; Balci, Hamza

Kodikara, Sineth G; Gyawali, Prabesh; Gleeson, James T; Jakli, Antal; Sprunt, Samuel; Balci, Hamza.

Afiliação

Kodikara SG; Department of Physics, Kent State University, Kent, Ohio 44242, United States.
Gyawali P; Department of Physics, Kent State University, Kent, Ohio 44242, United States.
Gleeson JT; Department of Physics, Kent State University, Kent, Ohio 44242, United States.
Jakli A; Department of Physics, Kent State University, Kent, Ohio 44242, United States.
Sprunt S; Advanced Materials and Liquid Crystals Institute, Kent State University, Kent, Ohio 44242, United States.
Balci H; Department of Physics, Kent State University, Kent, Ohio 44242, United States.

Langmuir ; 39(13): 4838-4846, 2023 04 04.

Article em En | MEDLINE | ID: mdl-36952670

Assuntos

DNA; Espalhamento a Baixo Ângulo; Difração de Raios X; DNA/química; Pareamento de Bases; Temperatura; Termodinâmica; Conformação de Ácido Nucleico

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Texto completo: 1 Coleções: 01-internacional Base de dados: MEDLINE Assunto principal: DNA Tipo de estudo: Prognostic_studies Idioma: En Revista: Langmuir Assunto da revista: QUIMICA Ano de publicação: 2023 Tipo de documento: Article País de afiliação: Estados Unidos

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