Detalles de la búsqueda
1.
Functionalization of the SiO2 Surface with Aminosilanes to Enable Area-Selective Atomic Layer Deposition of Al2O3.
Langmuir;
38(2): 652-660, 2022 Jan 18.
Artículo
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| MEDLINE | ID: mdl-34990131
2.
Characterizing Self-Assembled Monolayer Breakdown in Area-Selective Atomic Layer Deposition.
Langmuir;
37(39): 11637-11645, 2021 Oct 05.
Artículo
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| MEDLINE | ID: mdl-34550696
3.
Gas Phase Organic Functionalization of SiO2 with Propanoyl Chloride.
Langmuir;
34(48): 14489-14497, 2018 12 04.
Artículo
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| MEDLINE | ID: mdl-30375874
4.
Extending growth inhibition during area-selective atomic layer deposition of Al2O3 on aminosilane-functionalized SiO2.
Chem Commun (Camb);
58(46): 6650-6652, 2022 Jun 08.
Artículo
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| MEDLINE | ID: mdl-35593222
5.
Relation between Reactive Surface Sites and Precursor Choice for Area-Selective Atomic Layer Deposition Using Small Molecule Inhibitors.
J Phys Chem C Nanomater Interfaces;
126(10): 4845-4853, 2022 Mar 17.
Artículo
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| MEDLINE | ID: mdl-35330759
6.
Effect of Multilayer versus Monolayer Dodecanethiol on Selectivity and Pattern Integrity in Area-Selective Atomic Layer Deposition.
ACS Appl Mater Interfaces;
12(37): 42226-42235, 2020 Sep 16.
Artículo
en Inglés
| MEDLINE | ID: mdl-32805867
7.
A Three-Step Atomic Layer Deposition Process for SiN x Using Si2Cl6, CH3NH2, and N2 Plasma.
ACS Appl Mater Interfaces;
10(22): 19153-19161, 2018 Jun 06.
Artículo
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| MEDLINE | ID: mdl-29750496
8.
Understanding the Mechanism of SiC Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition (PECVD) and Developing Routes toward SiC Atomic Layer Deposition (ALD) with Density Functional Theory.
ACS Appl Mater Interfaces;
10(17): 15216-15225, 2018 May 02.
Artículo
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| MEDLINE | ID: mdl-29634908
9.
Thermal Atomic Layer Etching of Silica and Alumina Thin Films Using Trimethylaluminum with Hydrogen Fluoride or Fluoroform.
ACS Appl Mater Interfaces;
10(37): 31784-31794, 2018 Sep 19.
Artículo
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| MEDLINE | ID: mdl-30179460
10.
Tuning Material Properties of Oxides and Nitrides by Substrate Biasing during Plasma-Enhanced Atomic Layer Deposition on Planar and 3D Substrate Topographies.
ACS Appl Mater Interfaces;
10(15): 13158-13180, 2018 Apr 18.
Artículo
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| MEDLINE | ID: mdl-29554799
11.
Atomic Layer Deposition of Wet-Etch Resistant Silicon Nitride Using Di(sec-butylamino)silane and N2 Plasma on Planar and 3D Substrate Topographies.
ACS Appl Mater Interfaces;
9(2): 1858-1869, 2017 Jan 18.
Artículo
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| MEDLINE | ID: mdl-28059494
12.
Low-Temperature Conformal Atomic Layer Deposition of SiNx Films Using Si2Cl6 and NH3 Plasma.
ACS Appl Mater Interfaces;
7(20): 10806-13, 2015 May 27.
Artículo
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| MEDLINE | ID: mdl-25927250
13.
Effect of reaction mechanism on precursor exposure time in atomic layer deposition of silicon oxide and silicon nitride.
ACS Appl Mater Interfaces;
6(13): 10534-41, 2014 Jul 09.
Artículo
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| MEDLINE | ID: mdl-24915469
14.
Rapid vapor deposition of highly conformal silica nanolaminates.
Science;
298(5592): 402-6, 2002 Oct 11.
Artículo
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| MEDLINE | ID: mdl-12376699
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