Detalles de la búsqueda
1.
Substrate selectivity in the low temperature atomic layer deposition of cobalt metal films from bis(1,4-di-tert-butyl-1,3-diazadienyl)cobalt and formic acid.
J Chem Phys;
146(5): 052813, 2017 Feb 07.
Artículo
en Inglés
| MEDLINE | ID: mdl-28178839
2.
Selective Growth of Interface Layers from Reactions of Sc(MeCp)2(Me2pz) with Oxide Substrates.
ACS Appl Mater Interfaces;
10(38): 32818-32827, 2018 Sep 26.
Artículo
en Inglés
| MEDLINE | ID: mdl-30211529
3.
Low Temperature, Selective Atomic Layer Deposition of Nickel Metal Thin Films.
ACS Appl Mater Interfaces;
10(16): 14200-14208, 2018 Apr 25.
Artículo
en Inglés
| MEDLINE | ID: mdl-29630338
4.
Thermal Atomic Layer Etching of Silica and Alumina Thin Films Using Trimethylaluminum with Hydrogen Fluoride or Fluoroform.
ACS Appl Mater Interfaces;
10(37): 31784-31794, 2018 Sep 19.
Artículo
en Inglés
| MEDLINE | ID: mdl-30179460
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