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1.
Molecular mechanisms of atomic layer etching of cobalt with sequential exposure to molecular chlorine and diketones.
J Vac Sci Technol A;
37(2): 021004, 2019 Mar.
Artículo
en Inglés
| MEDLINE | ID: mdl-30940989
2.
Surface Chemistry of Thermal Dry Etching of Cobalt Thin Films Using Hexafluoroacetylacetone (hfacH).
Appl Surf Sci;
455: 438-445, 2018 Oct 15.
Artículo
en Inglés
| MEDLINE | ID: mdl-29937610
3.
Comparison of ZnO surface modification with gas-phase propiolic acid at high and medium vacuum conditions.
J Vac Sci Technol A;
36(4): 041404, 2018 Jul.
Artículo
en Inglés
| MEDLINE | ID: mdl-29983480
4.
Gas-Phase Electron-Impact Activation of Atomic Layer Deposition (ALD) Precursors: MeCpPtMe3.
J Phys Chem Lett;
9(16): 4602-4606, 2018 Aug 16.
Artículo
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| MEDLINE | ID: mdl-30067025
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