Metal plasma immersion ion implantation and deposition (MePIIID) on screw-shaped titanium implant: The effects of ion source, ion dose and acceleration voltage on surface chemistry and morphology.

Kang, Byung-Soo; Sul, Young-Taeg; Jeong, Yongsoo; Byon, Eungsun; Kim, Jong-Kuk; Cho, Suyeon; Oh, Se-Jung; Albrektsson, Tomas

Kang, Byung-Soo; Sul, Young-Taeg; Jeong, Yongsoo; Byon, Eungsun; Kim, Jong-Kuk; Cho, Suyeon; Oh, Se-Jung; Albrektsson, Tomas.

Afiliación

Kang BS; Department of Biomaterials/Handicap Research, Institute for Clinical Sciences, The Sahlgrenska Academy at University of Gothenburg, Gothenburg, Sweden. byung-soo.kang@biomaterials.gu.se

Med Eng Phys ; 33(6): 730-8, 2011 Jul.

Article en En | MEDLINE | ID: mdl-21334957

Asunto(s)

Materiales Biocompatibles Revestidos/química; Implantes Dentales; Oseointegración; Titanio/química; Tornillos Óseos; Calcio/química; Estimulación Eléctrica; Hidroxilación; Iones; Magnesio/química; Microscopía Electrónica de Rastreo; Espectroscopía de Fotoelectrones; Propiedades de Superficie

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Texto completo: 1 Bases de datos: MEDLINE Asunto principal: Titanio / Implantes Dentales / Oseointegración / Materiales Biocompatibles Revestidos Idioma: En Revista: Med Eng Phys Asunto de la revista: BIOFISICA / ENGENHARIA BIOMEDICA Año: 2011 Tipo del documento: Article País de afiliación: Suecia

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