pH driven addressing of silicon nanowires onto Si3N4/SiO2 micro-patterned surfaces.

Cloarec, Jean-Pierre; Chevalier, Céline; Genest, Jonathan; Beauvais, Jacques; Chamas, Hassan; Chevolot, Yann; Baron, Thierry; Souifi, Abdelkader

Cloarec, Jean-Pierre; Chevalier, Céline; Genest, Jonathan; Beauvais, Jacques; Chamas, Hassan; Chevolot, Yann; Baron, Thierry; Souifi, Abdelkader.

Afiliación

Cloarec JP; Université de Lyon, Institut des Nanotechnologies de Lyon, site Ecole Centrale de Lyon et site INSA de Lyon, France UMR 5270 CNRS, INSA de Lyon, ECL, UCBL, CPE, France. Laboratoire Nanotechnologies & Nanosystèmes, UMR 3463 CNRS, INSA de Lyon, ECL, UJF, Université de Sherbrooke, Pavillon P2-3IT, 3000 Boulevard de l'Université, Sherbrooke J1K 0A5, Québec, Canada.

Nanotechnology ; 27(29): 295602, 2016 Jul 22.

Article en En | MEDLINE | ID: mdl-27275545

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