Detalhe da pesquisa
1.
Structured illumination ptychography and at-wavelength characterization with an EUV diffuser at 13.5â nm wavelength.
Opt Express
; 32(3): 3480-3491, 2024 Jan 29.
Artigo
em Inglês
| MEDLINE | ID: mdl-38297568
2.
Design of computer-generated holograms based on semi-rigorous simulations of sub-wavelength structures.
Opt Express
; 31(7): 11089-11101, 2023 Mar 27.
Artigo
em Inglês
| MEDLINE | ID: mdl-37155752
3.
Ultrafast farfield simulation of non-paraxial computer generated holograms.
Opt Express
; 30(8): 13765-13775, 2022 Apr 11.
Artigo
em Inglês
| MEDLINE | ID: mdl-35472982
4.
Second harmonic generation under doubly resonant lattice plasmon excitation.
Opt Express
; 30(22): 40884-40896, 2022 Oct 24.
Artigo
em Inglês
| MEDLINE | ID: mdl-36299013
5.
Enhancement of third harmonic generation induced by surface lattice resonances in plasmonic metasurfaces.
Opt Lett
; 47(22): 6025-6028, 2022 Nov 15.
Artigo
em Inglês
| MEDLINE | ID: mdl-37219163
6.
Optical properties of black silicon structures ALD-coated with Al2O3.
Nanotechnology
; 34(1)2022 Oct 12.
Artigo
em Inglês
| MEDLINE | ID: mdl-36164977
7.
Macroscopic wave-optical simulation of dielectric metasurfaces.
Opt Express
; 29(7): 10879-10892, 2021 Mar 29.
Artigo
em Inglês
| MEDLINE | ID: mdl-33820211
8.
Diffuse scattering due to stochastic disturbances of 1D-gratings on the example of line edge roughness.
Opt Express
; 26(21): 28104-28118, 2018 Oct 15.
Artigo
em Inglês
| MEDLINE | ID: mdl-30469866
9.
Rowland ghost suppression in high efficiency spectrometer gratings fabricated by e-beam lithography.
Opt Express
; 25(6): 6182-6191, 2017 Mar 20.
Artigo
em Inglês
| MEDLINE | ID: mdl-28380972
10.
175 nm period grating fabricated by i-line proximity mask-aligner lithography.
Opt Lett
; 42(19): 3816-3819, 2017 Oct 01.
Artigo
em Inglês
| MEDLINE | ID: mdl-28957136
11.
Comparison of hyperspectral imaging spectrometer designs and the improvement of system performance with freeform surfaces.
Appl Opt
; 56(24): 6894-6901, 2017 Aug 20.
Artigo
em Inglês
| MEDLINE | ID: mdl-29048032
12.
Double-sided structured mask for sub-micron resolution proximity i-line mask-aligner lithography.
Opt Express
; 23(13): 16628-37, 2015 Jun 29.
Artigo
em Inglês
| MEDLINE | ID: mdl-26191675
13.
Pulse compression grating fabrication by diffractive proximity photolithography.
Opt Lett
; 39(4): 1042-5, 2014 Feb 15.
Artigo
em Inglês
| MEDLINE | ID: mdl-24562273
14.
250 nm period grating transferred by proximity i-line mask-aligner lithography.
Opt Lett
; 39(6): 1665-8, 2014 Mar 15.
Artigo
em Inglês
| MEDLINE | ID: mdl-24690864
15.
Structured Mo/Si multilayers for IR-suppression in laser-produced EUV light sources.
Opt Express
; 21(23): 27852-64, 2013 Nov 18.
Artigo
em Inglês
| MEDLINE | ID: mdl-24514302
16.
Mode shaping in semiconductor broad area lasers by monolithically integrated phase structures.
Opt Lett
; 38(21): 4480-2, 2013 Nov 01.
Artigo
em Inglês
| MEDLINE | ID: mdl-24177124
17.
High numerical aperture hybrid optics for two-photon polymerization.
Opt Express
; 20(7): 7994-8005, 2012 Mar 26.
Artigo
em Inglês
| MEDLINE | ID: mdl-22453471
18.
Advanced mask aligner lithography: fabrication of periodic patterns using pinhole array mask and Talbot effect.
Opt Express
; 18(19): 19485-94, 2010 Sep 13.
Artigo
em Inglês
| MEDLINE | ID: mdl-20940844
19.
Advanced mask aligner lithography: new illumination system.
Opt Express
; 18(20): 20968-78, 2010 Sep 27.
Artigo
em Inglês
| MEDLINE | ID: mdl-20940992
20.
Highly efficient three-level blazed grating in the resonance domain.
Opt Lett
; 35(16): 2774-6, 2010 Aug 15.
Artigo
em Inglês
| MEDLINE | ID: mdl-20717453