Conventional and back-side focused ion beam milling for off-axis electron holography of electrostatic potentials in transistors. | Ultramicroscopy;103(1): 67-81, 2005 Apr. | MEDLINE

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Conventional and back-side focused ion beam milling for off-axis electron holography of electrostatic potentials in transistors.

Dunin-Borkowski, Rafal E; Newcomb, Simon B; Kasama, Takeshi; McCartney, Martha R; Weyland, Matthew; Midgley, Paul A.

Afiliação

Dunin-Borkowski RE; Department of Materials Science and Metallurgy, University of Cambridge, Pembroke Street, Cambridge CB2 3QZ, UK. rafal.db@msm.cam.ac.uk

Ultramicroscopy ; 103(1): 67-81, 2005 Apr.

Article em En | MEDLINE | ID: mdl-15777601

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Base de dados: MEDLINE Idioma: En Revista: Ultramicroscopy Ano de publicação: 2005 Tipo de documento: Article País de afiliação: Reino Unido

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