Ba deposition and oxidation on theta-Al2O3/NiAl(100) ultrathin films. Part I: Anaerobic deposition conditions.
J Phys Chem B
; 110(34): 17001-8, 2006 Aug 31.
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Idioma:
En
Revista:
J Phys Chem B
Assunto da revista:
QUIMICA
Ano de publicação:
2006
Tipo de documento:
Article
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Estados Unidos