Characteristics of nanocomposite ZrO2/Al2O3 films deposited by plasma-enhanced atomic layer deposition.

Yun, Sun Jin; Lim, Jung Wook; Kim, Hyun-Tak

Yun, Sun Jin; Lim, Jung Wook; Kim, Hyun-Tak.

Afiliação

Yun SJ; Terahertz Devices Team, Electronics and Telecommunications Research Institute, 161 Gajung-dong, Yusong-gu, Daejon 305-350, Korea.

J Nanosci Nanotechnol ; 7(11): 4180-4, 2007 Nov.

Article em En | MEDLINE | ID: mdl-18047146

Assuntos

Óxido de Alumínio/química; Cristalização/métodos; Membranas Artificiais; Nanoestruturas/química; Nanoestruturas/ultraestrutura; Nanotecnologia/métodos; Zircônio/química; Condutividade Elétrica; Gases/química; Temperatura Alta; Substâncias Macromoleculares/química; Teste de Materiais; Conformação Molecular; Tamanho da Partícula; Propriedades de Superfície

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Base de dados: MEDLINE Assunto principal: Zircônio / Cristalização / Nanotecnologia / Nanoestruturas / Óxido de Alumínio / Membranas Artificiais Idioma: En Revista: J Nanosci Nanotechnol Ano de publicação: 2007 Tipo de documento: Article

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