A self-propagating system for Ge incorporation into nanostructured silica.

Davis, Aubrey K; Hildebrand, Mark

Davis, Aubrey K; Hildebrand, Mark.

Afiliação

Davis AK; Scripps Institution of Oceanography, University of California, San Diego, 9500 Gilman Dr, La Jolla, CA 92093-0202, USA.

Chem Commun (Camb) ; (37): 4495-7, 2008 Oct 07.

Article em En | MEDLINE | ID: mdl-18802602

ABSTRACT

ABSTRACT

Technologically-relevant levels of Ge can be incorporated into cell wall silica of the diatom Thalassiosira pseudonana with no aberration in structure at low levels, whereas higher levels alter structure.

Assuntos

Diatomáceas/química; Germânio/química; Nanoestruturas; Dióxido de Silício/química; Microscopia Eletrônica de Varredura

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Texto completo: 1 Base de dados: MEDLINE Assunto principal: Diatomáceas / Dióxido de Silício / Nanoestruturas / Germânio Idioma: En Revista: Chem Commun (Camb) Assunto da revista: QUIMICA Ano de publicação: 2008 Tipo de documento: Article País de afiliação: Estados Unidos

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