An inorganic-organic diblock copolymer photoresist for direct mesoporous SiCN ceramic patterns via photolithography.

Nguyen, Chi Thanh; Hoang, Phan Huy; Perumal, Jayakumar; Kim, Dong-Pyo

Nguyen, Chi Thanh; Hoang, Phan Huy; Perumal, Jayakumar; Kim, Dong-Pyo.

Afiliação

Nguyen CT; National Creative Research Center of Applied Microfluidic Chemistry, Chungnam National University, 220 Kung Dong, Yuseong Gu, Daejeon 305-764, Korea.

Chem Commun (Camb) ; 47(12): 3484-6, 2011 Mar 28.

Article em En | MEDLINE | ID: mdl-21311806

Assuntos

Cerâmica/química; Cianetos/química; Luz; Compostos Orgânicos/química; Polímeros/química; Impressão; Compostos de Silício/química; Porosidade

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Texto completo: 1 Base de dados: MEDLINE Assunto principal: Compostos Orgânicos / Polímeros / Impressão / Cerâmica / Compostos de Silício / Cianetos / Luz Idioma: En Revista: Chem Commun (Camb) Assunto da revista: QUIMICA Ano de publicação: 2011 Tipo de documento: Article

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