Note: fast and reliable fracture strain extraction technique applied to silicon at nanometer scale.

Passi, Vikram; Bhaskar, Umesh; Pardoen, Thomas; Sodervall, Ulf; Nilsson, Bengt; Petersson, Goran; Hagberg, Mats; Raskin, Jean-Pierre

Passi, Vikram; Bhaskar, Umesh; Pardoen, Thomas; Sodervall, Ulf; Nilsson, Bengt; Petersson, Goran; Hagberg, Mats; Raskin, Jean-Pierre.

Afiliação

Passi V; Institute of Information and Communication Technologies, Electronics and Applied Mathematics (ICTEAM), Université catholique de Louvain, Place du Levant, 3, 1348 Louvain-la-Neuve, Belgium. vikram.passi@isen.iemn.univ-lille1.fr

Rev Sci Instrum ; 82(11): 116106, 2011 Nov.

Article em En | MEDLINE | ID: mdl-22129022

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