Colloidal lithography using silica particles: improved particle distribution and tunable wetting properties.
J Colloid Interface Sci
; 392: 219-225, 2013 Feb 15.
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em En
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Texto completo:
1
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Assunto principal:
Dióxido de Silício
Idioma:
En
Revista:
J Colloid Interface Sci
Ano de publicação:
2013
Tipo de documento:
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Bélgica