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Dual passivation of GaAs (110) surfaces using O2/H2O and trimethylaluminum.
Kent, Tyler J; Edmonds, Mary; Chagarov, Evgueni; Droopad, Ravi; Kummel, Andrew C.
Afiliação
  • Kent TJ; Materials Science and Engineering Program, University of California, San Diego, La Jolla, California 92093, USA.
  • Edmonds M; Materials Science and Engineering Program, University of California, San Diego, La Jolla, California 92093, USA.
  • Chagarov E; Department of Chemistry and Biochemistry, University of California, San Diego, La Jolla, California 92093, USA.
  • Droopad R; Department of Physics, Texas State University, San Marcos, Texas 78666, USA.
  • Kummel AC; Materials Science and Engineering Program, University of California, San Diego, La Jolla, California 92093, USA.
J Chem Phys ; 139(24): 244706, 2013 Dec 28.
Article em En | MEDLINE | ID: mdl-24387387
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Texto completo: 1 Base de dados: MEDLINE Idioma: En Revista: J Chem Phys Ano de publicação: 2013 Tipo de documento: Article País de afiliação: Estados Unidos
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